Sharp entwickelt Massenproduktion für Dünnschicht-Solarzellen mit Triple-Junction-Technologie

Die Sharp Corporation (Osaka, Japan) hat mit Erfolg eine Technologie zur Fertigung von Dünnschicht-Solarzellen mit drei Halbleiterschichten (triple-junction) entwickelt, berichtet das Unternehmen in einer Pressemitteilung. Zu diesem Zweck sei eine herkömmliche zweischichtige Solarzelle aus amorphem plus mikrokristallinem Silizium in eine Zelle mit drei aktiven Halbleiterschichten umgewandelt worden. Zwei der Halbleiterschichten bestehen aus amorphem Silizium und […]

Die Sharp Corporation (Osaka, Japan) hat mit Erfolg eine Technologie zur Fertigung von Dünnschicht-Solarzellen mit drei Halbleiterschichten (triple-junction) entwickelt, berichtet das Unternehmen in einer Pressemitteilung. Zu diesem Zweck sei eine herkömmliche zweischichtige Solarzelle aus amorphem plus mikrokristallinem Silizium in eine Zelle mit drei aktiven Halbleiterschichten umgewandelt worden. Zwei der Halbleiterschichten bestehen aus amorphem Silizium und ein so genannter Layer aus monokristallinem Silizium. Diese neue Konstruktion steigere den Zellwirkungsgrad von elf auf 13 % und den Wirkungsgrad von industriell hergestellten Solarmodulen von 8,6 % auf 10 %. Mit der Massenproduktion soll im Mai 2007 in der Sharp-Produktionsstätte Katsuragi (Präfektur Nara) begonnen werden.
Mit den beiden Halbleiterschichten aus amorphem Silizium steigt laut Sharp die Zellspannung und durch die insgesamt drei Layer würde zugleich der altersbedingte Rückgang des Wirkungsgrades von Solarzellen (Degradation) reduziert. Das Ergebnis seien besonders effiziente von Solarzellen und –module.

Großserienproduktion der neuen Technologie ohne zusätzliche Ausrüstung möglich
Üblicherweise erfordere der Übergang von der Fertigung einer zweischichtigen Solarzelle zur Herstellung von Solarzellen mit drei Schichten zusätzliche Produktionsanlagen, betont Sharp. Doch die neu entwickelten Dünnschichtzellen könnten mit den bisher verwendeten Produktionslinien gefertigt werden, was zusätzlich niedrigere Produktionskosten pro Watt peak bringe, ohne dass teure zusätzliche Ausrüstung für die Großserienproduktion erforderlich werde. Noch mehr Leistung werde die Triple-Junction-Technologie bringen, wenn diese beispielsweise in Sharp’s Lumiwall (Solarmodul plus LED-Beleuchtung) oder in transparenten Solarmodulen eingesetzt wird. Der Hersteller geht zudem davon aus, dass die Neuentwicklung den Anwendungsbereich der Dünnschichtphotovoltaik beträchtlich erweitern wird.
Sharp ist seit sechs Jahren ohne Unterbrechung weitweit Marktführer bei der Solarzellenproduktion und will auch künftig die Entwicklung der Dünnschicht-Technik sowie der Solarzellen aus kristallinem Silizium kräftig vorantreiben. Grundlagen hierfür seien sowohl die technologischen Kapazitäten des Unternehmens als auch seine langjährige Photovoltaik-Erfahrung.

30.01.2007 | Quelle: Sharp Corporation | solarserver.de © EEM Energy & Environment Media GmbH

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