Fraunhofer-Institut bietet neues Kontaktierungsverfahren für Solarzellen

Ein neues Verfahren zum Auftragen der Kontakte auf die Solarzellenvorderseite hat das Fraunhofer Institut für Solare Energiesysteme (Fraunhofer ISE) entwickelt. Mit ihm lassen sich laut einer Meldung des Bundesumweltministeriums schmalere Kontakte mit einer besseren spezifischen Leitfähigkeit als mit dem industriell gebräuchlichen Siebdruck-Verfahren herstellen. Außerdem vermeide es Schäden an der Solarzelle und spare Material. Mir dem neuen Photovoltaik-Produktionsverfahren werden die Kontakte in zwei Stufen auf die Zelle gebracht.
Zunächst wird es eine dünne, meist silberhaltige Metallschicht aufgetragen indem ein mit Luft versetztes Metall kontaktfrei aufgesprüht wird. Eine Methode, mit der sich auch sehr dünne und unebene Silizium-Wafer in industriellem Maßstab bedrucken lassen. Im zweiten Schritt wird die Zelle in eine silberhaltige Lösung getaucht. Dabei legt sich eine zweite leitende Schicht auf die erste.

Das Fraunhofer ISE hat die Apparatur für das zum Patent angemeldete Verfahren gebaut und erstmalig für die Metallisierung von Solarzellen verwendet. Die so hergestellten Solarzellen haben nach Angaben des Instituts lediglich 50 Mikrometer dünne Kontaktfinger und erreichen einen Wirkungsgrad von 17,8 Prozent.

11.06.2007 | Quelle: Fraunhofer ISE, BMU, DGS | solarserver.de © EEM Energy & Environment Media GmbH