Photovoltaik: Sharp baut Dünnschicht-Fertigung von 15 auf 160 MW aus

Am 1. Oktober 2008 hat Sharp im japanischen Katsuragi eine zweite Produktionslinie zur Serienherstellung von Dünnschicht-Solarzellen in Betrieb genommen. Damit erweitert der Solar-Pionier seine Produktionskapazität für Dünnschichtzellen von 15 auf 160 Megawatt pro Jahr. Mit Investitionen von rund 146 Millionen Euro in die neue Herstellungstechnologie unterstreiche Sharp zugleich seine Innovationskraft, heißt es in der Pressemiteilung. […]

Am 1. Oktober 2008 hat Sharp im japanischen Katsuragi eine zweite Produktionslinie zur Serienherstellung von Dünnschicht-Solarzellen in Betrieb genommen. Damit erweitert der Solar-Pionier seine Produktionskapazität für Dünnschichtzellen von 15 auf 160 Megawatt pro Jahr. Mit Investitionen von rund 146 Millionen Euro in die neue Herstellungstechnologie unterstreiche Sharp zugleich seine Innovationskraft, heißt es in der Pressemiteilung. In Katsuragi produziere das Unternehmen Dünnschichtsolarzellen der zweiten Generation. Die neuen Solarzellen mit mikroamorpher Tandemstruktur werden auf Glasträgern gefertigt, die 2,7 Mal so groß sind als ihre Vorgänger: 1.000 mal 1.400 Millimeter misst das Trägerglas, aus dem die Zellen geschnitten werden. Die Verarbeitung von Trägermaterial dieser Größe ermöglicht eine Steigerung der Produktionseffizienz und damit der Wirtschaftlichkeit des Unternehmens.
„Sharp hat seit 20 Jahren Erfahrung in der Entwicklung und Produktion von Dünnschichtzellen“, so Kenichi Takahashi, Marketing Division General Manager Sharp Solar Energy Solution Europe (SESE). „Mit der neuen Fertigungslinie in Katsuragi gelingt es uns, die Produktionskosten weiterhin zu senken und die Moduleffizienz erneut zu steigern“, so Takahashi weiter.

Modulwirkungsgrad steigt, Herstellungsprozess wird kürzer
Sharp kann nach eigenen Angaben mit den Dünnschichtzellen der zweiten Generation den Modulwirkungsgrad von 8,5 auf 9 Prozent steigern, die Modulleistung beträgt bis zu 128 Watt. Für die Produktion der Dünnschichtzellen greift das Unternehmen auf sein Know-how aus der Oberflächenbeschichtung von Glas zurück: in einem komplexen Verfahren werden dünne Schichten Silizium auf ein Trägerglas aufgedampft, anschließend werden daraus die Solarzellen gestanzt. Im Vergleich zur waferbasierten Solarstromtechnologie benötigt die Dünnschichttechnologie dadurch nur ungefähr ein Hundertstel des immer noch knappen und daher kostenintensiven Rohstoffs Silizium. Zudem ermöglichen der kürzere Herstellungsprozess sowie die größere Automatisierung des Prozesses eine weitere Steigerung der Wirtschaftlichkeit.

Netzparität in Südeuropa bis 2010 erwartet
Die Module aus der zweiten Generation Dünnschichtzellen werden vorerst nach Deutschland und Südeuropa verschifft, wo sie in Großanlagen zur solaren Energiegewinnung verbaut werden. Kenichi Takahashi: „Der Bedarf an kostengünstigen und sauberen Energiequellen steigt weltweit. Vor allem im sonnenreichen Südeuropa besteht eine große Nachfrage nach Photovoltaik. Mit unserer State-of-the Art-Technologie sind wir sowohl bei der Zellherstellung als auch bei der Moduleffizienz führend und können den wachsenden und dynamischen Markt optimal bedienen. So tragen wir auch dazu bei, die Solarenergie konkurrenzfähig zu machen und Netzparität zu erreichen – im Süden Europas rechnen wir damit schon bis 2010.“
Während die waferbasierte kristalline Technologie noch am meisten verbreitet ist, gewinnt die Dünnschichttechnologie mehr und mehr an Bedeutung. Zum einen erzielt sie in vielen Einbausituationen höhere Erträge, beispielsweise bei hohen Temperaturen oder diffusen Lichtverhältnissen. Darüber hinaus gilt sie als Technologie mit dem höchsten Potenzial zur Kostenreduktion. Bis 2010 prognostiziert die EPIA (European Photovoltaic Industry Association) eine Kapazität für Dünnschichtzellen von vier Gigawatt mit einem Marktanteil von 20 Prozent – das entspricht einer Verdoppelung gegenüber 2007.

Geplante Gigawatt-Fabrik in Sakai soll 2010 mit einer Anfangsproduktion von 480 Megawatt starten
Der Kapazitätsausbau in Katsuragi ist für Sharp ein Schritt zur weiteren Dünnschichtexpansion: Ende 2007 hat das Unternehmen mit dem Bau der weltweit ersten Gigawatt-Fabrik in Sakai (Präfektur Osaka) begonnen, die 2010 mit einer Anfangsproduktion von 480 Megawatt starten soll. Aufbauend auf dem jetzigen Entwicklungsstand soll in Sakai eine noch fortschrittlichere Technologie zum Einsatz kommen: dort sollen dann Dünnschichtmodule mit einem Wirkungsgrad von 10 Prozent gefertigt werden. Sharp bietet als weltweit einziger Hersteller kristalline Solarzellen, Dünnschichtzellen und die Lichtkonzentratortechnologie. Damit hat das Unternehmen für jede Anwendung die passende Solarstromlösung in seinem Produktportfolio. Bis heute produzierte Sharp mehr als zwei Gigawatt Solarzellen und ist damit der weltweit größte Photovoltaikhersteller.

30.10.2008 | Quelle: Sharp Electronics (Europe) GmbH | solarserver.de © EEM Energy & Environment Media GmbH

Beliebte Artikel

Schließen