Der niederländische Entwickler von Nanobeschichtugen, SALD BV, stellt seine Technologie für das Solarinstitut von Singapur (SERIS) bereit. Wie beide Akteure mitteilten, habe das SERIS damit seine Maschinerie für „Atomic Layer Deposition“ (ALD) auf das neuere Verfahren „Spatial Atomic Layer Deposition“ (SALD) aufgerüstet. „Das Upgrade vom ALD- auf das neue SALD-Verfahren bringt für uns erhebliche Vorteile mit sich.“ Das erklärt Dr. Shubham Duttagupta, Deputy Director bei SERIS mit Verantwortung für den Bereich „Next Generation Industrial Solar Cells & Modules“. Das Institut gehört ferner zur National University of Singapore (NUS).

Das Unternehmen aus Eindhoven hat mit SALD ein Verfahren entwickelt, im industriellen Maßstab dreidimensionale Beschichtungen aufzutragen. Diese sind so dünn wie ein einziges Atom. In der Solarwirtschaft lassen sich mit SALD-Beschichtungen für die neue Generation der Perowskit-Silizium-Tandemsolarzellen Wirkungs­grade bei der Leistungsumwandlung erreichen, die weit über der theoretischen Grenze von reinem Silizium liegen. Genau auf diesem Gebiet plant SERIS auch den Einsatz der neuen SALD-Anlage.

Dank des Verfahrens können neue Solarzellenmaterialien zur Anwendung kommen, darunter Zinnoxide und transparente leitfähige Oxide sowie Passivierungs- und Tunnelrekombinationsschichten. Es ist zudem geplant, die bei SERIS entwickelten Technologien künftig industriellen Solarzellenfertigern über Lizensierungsvereinbarungen zugänglich zu machen.

Perowskit-Solarzellen sind besonders effizient, leicht zu verarbeiten und preisgünstig herzustellen, bringen jedoch noch technische Herausforderungen bezüglich ihrer Stabilität mit sich. Durch eine atomdünne Beschichtung, wie sie mit der SALD-Technologie zu erreichen ist, werden die Zellen deutlich robuster. Diesen Sprung „from lab to fab“, also vom Labor zur Fertigung, will SERIS mit der neuen SALD-Maschine vollführen.

21.6.2022 | Quelle: SALD | solarserver.de © Solarthemen Media GmbH